项目介绍
首创在线式多层反应腔双真空系统，反应腔体体积小，节省工艺气体的消耗量（仅为传统的～1/8），可使等离子体快速稳定（稳定时间~0.1秒），RF频率可选13.56MHz和40.68MHz。整个CVD工艺过程实现全自动化生产，处于超洁净环境，无交叉污染，配备等离子体自清洗系统，无需开腔体维护，增加正常运行时间，优化的工艺及在线式托盘清洗，*大限度提高设备产能，可兼容M2-M12硅片，产能为250MW。
公司简介
- 上海理想万里晖薄膜设备有限公司主营太阳能、泛半导体高端PECVD装备，光伏和AMOLED显示等领域高端PECVD系列产品多次打破国外垄断、*，是中国高端PECVD装备的优选供应商。全资子公司在泰兴高新区拥有制造基地，可实现异质结PECVD装备年产能10GW。公司将致力于前沿高端光伏设备的研发，并将在现有基础上延伸产业链，开发大面积石墨烯和集成电路半导体领域用PECVD设备。
